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国产芯的一大举措,首台28nm光刻机即将交付

2020-06-10 09:25 与非网
关键词:光刻机物联网

黑龙江省证券股票配资导读:据上海微电子装备(集团)股份有限公司披露,将在 2021-2022 年交付第一台 28nm 工艺的国产的沉浸式光刻机。

作为 IC 制造的重要工艺,光刻是其中非常重要的一项操作,据有关数据显示,光刻在 IC 制造中所占的时间最长,而光刻机在半导体整体制造设备成本中占比也高达第一位,约为 27%。

虽然 28nm 工艺与当今国际顶尖的 7nm 乃至是 5nm 光刻机还有数代的隔阂,但是差距已经大大缩小,毕竟在此之前国产光刻机还是 90nm。

黑龙江省证券股票配资据悉,上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商,从低端切入各个细分市场,现已成为封测龙头企业的重要供应商,国内市场占有率高达 80%,全球市场占有率也有 40%,同时旗下 LED/MEMS/ 功率器件光刻机性能指标领先,LED 光刻机市占率第一。

黑龙江省证券股票配资上海微电子现有 4 大系列的光刻机产品,其中 600 系列步进扫描投影光刻机面向 IC 前道制造,采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,可用于 90nm、110nm、280nm 工艺和 200mm、300mm 晶圆生产。

黑龙江省证券股票配资我国作为全球芯片消费最大的国家之一,每年有大量的芯片都依赖进口,比如 2019 年一年我们进口的芯片就达到 2 万亿人民币以上,在这些芯片当中既包括高端的芯片,也包括了一些中低端芯片。

黑龙江省证券股票配资假如未来我国 28 纳米光刻机正式投产了,那么我国芯片产能将会大幅得到提升,而且能够自主生产的不仅仅是 28 纳米的芯片,还有可能包括更高工艺的芯片。

光刻机

所谓光刻,就是使用光在硅上印刷微小的电路图案,从而批量生产各类集成电路芯片。光刻系统本质上是投影系统,把设计师设计的芯片图案缩小之后刻在半导体材料上,经过复杂的加工处理,就得到了各种功能的芯片。

使用的光波长越小,制造芯片的工艺制程越高。光刻技术经历了紫外全谱(300~450nm)、 G 线(436nm)、 I 线 (365nm)、深紫外(DUV,包括 248nm 和 193nm)和极紫外(EUV,13.5nm)六个阶段。根据所使用的光的波长不同,可以将光刻机分为不同的种类。

我国能够从 90 纳米光刻机直接突破到 28 纳米,这是一个非常明显的进步,我相信按照目前我国对芯片的投入以及各大企业对芯片的重视程度,未来我国光刻机研究肯定会取得更大的进步。


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